Плазма в производстве микрочипов?

Ученые-ядерщики из университета Пердью (штат Индиана) предложили использовать технологии термоядерного синтеза для производства компьютерных микрочипов.

По словам руководителя отделения ядерной инженерии университета Ахмеда Хассанейна (Ahmed Hassanein), группа ученых под его руководством при конверсии энергии в плазму смогла получить ультрафиолетовое излучение с длиной волны в 13,5 нанометра ("экстремальный ультрафиолет"), с помощью которого можно производить микрочипы.

Он также отметил, что в настоящее время размер отдельного элемента чипа ограничен физическими параметрами ультрафиолетового излучения, которое применяется в фотолитографии. Сегодня в компьютерной промышленности используется DUV ("глубокий ультрафиолет" - излучение с длиной волны в 193 нанометра), с помощью которого можно производить чипы с размером элемента менее 50 нанометров. Однако дальнейшее уменьшение длины волны и размера получаемых транзисторов технически и экономически довольно затруднительно.

Ученые смогли подтвердить, что с помощью EUV-волн можно производить микрочипы размером менее 50 нанометров. Но пока энергоэффективность этого процесса крайне низка - менее 2% используемой энергии преобразуется в плазму. По подсчетам ученых, для производства необходимого количества плазмы мощность энергоустановки должна составлять более 100 киловатт, что неизбежно создаст много технологических сложностей.



Источник: DailyComm