Toshiba освоит новую технологию производства NAND flash

Toshiba намерена освоить технологию, которая позволяет существенно снизить стоимость производства микросхем памяти NAND flash, одной из ключевых сфер бизнеса японского вендора.

По данным издания Nikkei, Toshiba совместно со своими соотечественницами Dai Nippon Printing и Canon ведет исследования в области так называемой наноимпринтной или нанопечатной литографии (nanoimprint lithography, NIL). Чипмейкер планирует выделить часть средств из 860 млрд иен (7,9 млрд долларов США), которые в ближайшие три года предполагается потратить на развитие полупроводникового бизнеса, и направить их на создание новых производственных линий по выпуску флэш-памяти с применением технологии NIL.

Инновационное производство будет запущено в 2017 финансовом году на фабрике Toshiba в японском городе Йоккаити, относящемся к префектуре Миэ. Чуть позднее, с вводом нового производственного комплекса, который должен вступить в эксплуатация в 2018 фингоду, планируется начать и массовый выпуск чипов по технологии NIL. По оценкам Toshiba, с ее помощью весь производственный процесс микросхем NAND flash станет обходиться примерно на 10% дешевле.

В настоящее время Toshiba является вторым по величине производителем флэш-памяти после лидера рынка Samsung Electronics. Японский вендор, недавно переживший крупный бухгалтерский скандал, подорвавший его финансовое здоровье, проводит масштабную реструктуризацию и концентрирует внимание на полупроводниковом направлении, а также производстве оборудования для атомных реакторов.

Ранее Toshiba решила избавиться от бизнеса по выпуску бытовой техники и медицинского подразделения, продав их китайскому производителю Midea Group и японской Canon. Кроме того, Toshiba сокращает масштабы полупроводникового бизнеса, сосредотачивая ресурсы и проводя модернизацию в сегменте памяти NAND flash, который считается наиболее перспективным.



Источник: DailyComm