Panasonic и Renesas объединяют усилия ради 32-нанометровых чипов |
09.10.2008 11:15
Panasonic и Renesas, по сведениям издания Nikkei, объединяют усилия для массового производства 32-нанометровых чипов.
Nikkei сообщает, что двум компаниям удалось разработать технологию с использованием металлоксидной пленки (вместо силиконового материала) для изоляционного слоя и титанового нитрида для проводящего слоя. Это позволит 32-нанометровым чипам потреблять меньше электроэнергии, сделав их работу сравнимой с 45-нанометровыми собратьями.
Начало массового производства от Panasonic и Reneses намечено на 2011 год, но аналитики уже отмечают, что это довольно поздно, учитывая, что Toshiba и IBM нацеливаются на 2010 год, а Samsung и Intel - на 2009-й.
По материалам Engadget
Источник: DailyComm
Nikkei сообщает, что двум компаниям удалось разработать технологию с использованием металлоксидной пленки (вместо силиконового материала) для изоляционного слоя и титанового нитрида для проводящего слоя. Это позволит 32-нанометровым чипам потреблять меньше электроэнергии, сделав их работу сравнимой с 45-нанометровыми собратьями.
Начало массового производства от Panasonic и Reneses намечено на 2011 год, но аналитики уже отмечают, что это довольно поздно, учитывая, что Toshiba и IBM нацеливаются на 2010 год, а Samsung и Intel - на 2009-й.
По материалам Engadget
Источник: DailyComm
-
30.03.2022
-
15.03.2022
-
14.03.2022
-
11.03.2022
-
10.03.2022
-
10.03.2022
-
22.02.2022
-
21.02.2022
-
21.02.2022
-
16.02.2022
-
15.02.2022
-
14.02.2022
-
11.02.2022
-
11.02.2022
-
09.02.2022